工程电子结构和一个MoSi2N4单层通过调节表面化学吸收的光学特性
Yumei Zhang1, Shunhong Dong1, Pachaiyappan Murugan1
1Yunnan Key Laboratory of Optoelectronic Information Technology, College of Physics and Electronic Information, Yunnan Normal University Kunming 650500 China liuzhiyong@ynnu.edu.cn 220001@ynnu.edu.cn hongen.wang@outlook.com.
RSC advances
|September 6, 2023
概括
聚二氧化二氧化 (MoSi2N4) 单层的化有效调整其电子和光学性能. 这种表面功能化方法增强了光吸收,为先进的电子和光电子应用提供了潜力.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 凝聚物质物理学 凝聚物质物理学
- 表面科学是一门学科.
背景情况:
- 二氧化二氧化 (MoSi2N4) 单层显示出由于其带隙,移动性和稳定性,对光电子有希望.
- 现有的研究重点是缺陷工程和纳米复合材料,以提高MoSi2N4的性能.
- 表面功能化为量身定制材料特性提供了替代途径.
研究的目的:
- 理论上研究化对MoSi2N4单层电子和光学性能的影响.
- 探索化作为一种操纵MoSi2N4带结构和光吸收的方法.
- 为电子和光电子应用提供工程MoSi2N4的指导.
主要方法:
- 密度函数理论 (DFT) 的计算用于理论研究.
- 模拟的重点是MoSi2N4表面上原子的化学吸收.
- 电子带结构和光学特性被计算为原始和化MoSi2N4.4.
主要成果:
- 在N原子上的化学吸收是最有利的能量配置.
- 化显著减少了MoSi2N4的带隙,完全化导致了零带隙.
- 表面化增强可见光谱中的光吸收强度,特别是对于完全化的MoSi2N4.4.
结论:
- 化是一种有效的表面功能化策略,用于MoSi2N4.4.
- 调整化程度可以控制电子和光学性能.
- 这项研究为开发基于MoSi2N4的电子,光电子和光催化器的设备提供了理论见解.
