在垂直泄漏的缓冲区中对碳缺陷的数值模拟分析以及在表轴层上GaN的分解

Weicheng Cao1,2, Chunyan Song3,4, Hui Liao5,6

  • 1Department of Physics, College of Sciences, Shihezi University, Shihezi, 832000, China.

Scientific reports
|September 8, 2023
PubMed
概括

在上化 (GaN-on-Si) 中的碳兴奋剂通过管理泄漏电流来提高设备性能. 这项研究揭示了碳是如何形成的.