概括
这项研究介绍了一种基于马赫-泽恩德干涉仪的紧型磁光隔离器,使用波导. 新的μ转移印刷方法可以实现高密度集成,用于保护激光二极管.
科学领域:
- 光子学和材料科学 材料科学
- 集成光学和光子学集成光学和光子学.
背景情况:
- 光学隔离器对于保护激光二极管免受反射光的保护至关重要,防止损坏和操作不稳定.
- 传统的磁光 (MO) 隔离器在高密度集成方面面临着挑战,因为它们需要大量的基板.
- 现有的集成方法阻碍了用于先进光学电路的MO设备的小型化.
研究的目的:
- 为了展示一个适合集成光子电路的紧,高性能磁光隔离器.
- 克服MO设备传统集成方法的局限性.
- 为了在平台上实现光学隔离器的高密度集成.
主要方法:
- 使用 (Si) 波导制造一个紧的马赫-泽恩德干扰仪 (MZI).
- 使用微转移印刷的薄-合伊铁石榴石 (Ce:YIG) 在石榴石 (SGGG) 优惠券.
- 将Ce:YIG/SGGG优惠券集成到Si波导平台上.
主要成果:
- 在电信频段内达到14dB的最大隔离比.
- 展示的隔离器拥有0.25mm2的紧足迹.
- 集成的Ce:YIG/SGGG优惠券的尺寸为50 × 800 μm2,厚度约为1 μm.
结论:
- 在Si波导上通过μ转移打印成功展示了基于MZI的紧MO隔离器.
- 开发的方法促进了MO设备的高密度集成,克服了以前的基板限制.
- 这一进步对微型光学系统和改进的激光二极管保护有希望.
