使-1-heptyne

Mathias Franz1, Mahnaz Safian Jouzdani2, Lysann Kaßner1

  • 1Fraunhofer-Institute for Electronic Nano Systems ENAS, Technologie-Campus 3, 09126 Chemnitz, Germany.

PubMed
概括

我们开发了一种低温原子层沉积 (ALD) 工艺,用于金属,使用一种新型前体和等离子体. 这种方法在晶圆层实现了统一的膜,这对于先进的电子应用至关重要.