Induced Electric Dipoles
Biasing of Metal-Semiconductor Junctions
Types of Semiconductors
Schottky Barrier Diode
Metal-Semiconductor Junctions
MOSFET: Enhancement Mode
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通过共同作者、期刊和引用图与本文相关的文章。
Debasish Mondal1, Smruti Rekha Mahapatra1, Abigail M Derrico2
1Solid State and Structural Chemistry Unit, Indian Institute of Science, Bengaluru, Karnataka, India.
研究人员开发了新的二氧化瓦纳 (VO2) 薄膜,以控制其从金属到绝缘体的过渡 (MIT),而无需进行结构变化. 这种调制-兴奋剂方法提供了一种调整相关电子材料中的电子性质的新方法.
科学领域:
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