高流动性和偏差稳定的场效应晶体管,基于无形式二锡酸罗夫斯基特
Zhiwen Zhou1, Qihua Li2, Mojun Chen3
1Department of Electronic Engineering, The Chinese University of Hong Kong, Shatin 999077, Hong Kong SAR, China.
概括
我们使用增材工程策略开发了基于锡的稳定矿晶体管. 化添加剂增强膜结晶并减少缺陷,从而产生高性能和耐用的场效应晶体管 (FET).
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 固态电子 固态电子
- 矿石半导体 半导体 半导体
背景情况:
- 化氧化矿对电子设备具有前景,但运行稳定性不佳.
- 基于这些材料的场效应晶体管 (FET) 需要提高性能和寿命.
研究的目的:
- 开发高性能和稳定的基矿场效应晶体管 (FET).
- 研究增材工程策略,以改善3D形式的酸 (FASnI3) 薄膜.
主要方法:
- 使用化 (PEA) 和4-化 (FPEA) 的添加剂工程.
- 添加剂效应的比较实验和理论研究.
- 基于FASnI3的FET的制造和表征.
主要成果:
- 乙烯 (PEA) 和其化衍生物 (FPEA) 增强了FASnI3膜结晶.
- 化独特地减少了结构缺陷,抑制了Sn2+氧化,并阻止了有害反应.
- 优化FPEA修改的FASnI3 FET实现了15.1cm2/V·s的纪录移动性,而歇斯底里则可以忽略不计.
- 设备表现出极好的稳定性,在2小时偏差应力期间的电流变化<10%,在4200个周期中<3%.
结论:
- 使用FPEA的增材工程是一种可行的策略,用于创建稳定和高性能锡基矿FET.
- 化在克服化 PeroVskites 的稳定性限制方面发挥着至关重要的作用.
- 开发的FET代表了迄今为止基于Sn的晶体管所取得的最佳稳定性.


