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Updated: Jul 12, 2025

07:51
Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators
Published on: July 2, 2012
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概括
研究人员使用原子层沉积开发了超低损失的光子波导和共振器. 这一突破在紫外线光谱中实现了创纪录的高质量因素,推进了光学传感和量子技术.
科学领域:
- 光学和光学工程的光学和光学工程.
- 材料科学是一种材料科学.
- 量子信息科学是一种量子信息科学.
背景情况:
- 紫外线和可见波长中的光子学对于传感,通信和量子处理至关重要.
- 这些模式中的高光学损失限制了设备的性能,特别是近紫外线频段的芯片微振器,其质量因子没有超过100万.
- 现有的制造方法难以实现先进的紫外线光子应用所需的超低损耗.
研究的目的:
- 为UV和可见光开发超低损耗光子波导和共振器.
- 为了在近紫外线光谱带中实现创纪录的高质量因素.
- 为了展示高性能UV光子设备的可扩展的制造工艺.
主要方法:
- 使用原子层沉积 (ALD) 制造质薄膜.
- 来自ALD制备的膜的光子波导和微振器的图案.
- 在紫外线和可见波长下,光学损失和质量因子 (Q因子) 的表征.
主要成果:
- 经过证明,超低损耗的光子波导和振器由薄膜构成.
- 在近紫外线频段,在390nm时达到1.5×106的创纪录的高Q系数.
- 在488.5nm时获得了1.9 × 106的Q因子,在UV和可见光谱中展示了高性能.
结论:
- 的原子层沉积提供了一个可扩展的途径,在紫外线和可见模式下实现超低损耗光子设备.
- 证明的高Q系数代表了芯片上的紫外线光子技术的重大进步,克服了以前的局限性.
- 这些结果为增强的光谱传感,通信和量子信息处理应用铺平了道路.

