通过基于BCP的金属氧化物口罩和先进的干蚀刻,通过高尺寸比的纳米尺度孔
Aislan Esmeraldo Paiva1, Michael S Gerlt2,3, Nino F Läubli4
1AMBER Research Centre/School of Chemistry, Trinity College Dublin, Dublin D02 CP49, Ireland.
ACS applied materials & interfaces
|October 20, 2023
概括
我们开发了一种新的方法,将块共聚合物面膜和深度反应性离子蚀刻相结合,为先进的材料应用创造高面积比率的多孔表面.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 表面工程是什么?表面工程是什么?
背景情况:
- 表面修改对于创建功能性材料至关重要.
- 多孔地形提供了诸如高表面积和特定性质 (如疏水性) 等优势.
- 制造受控多孔结构,特别是具有高面积比率的结构,仍然是一个挑战.
研究的目的:
- 引入一种新的制造技术,用于制造高面积比率的多孔.
- 为了证明自组装的块共聚物面罩和深度反应性离子蚀刻 (DRIE) 的组合.
- 评估这些多孔结构适用于需要高光吸收和热管理的应用.
主要方法:
- 使用了纳米级自组装的基于区块-聚合物的金属氧化物口罩.
- 采用了优化深度反应离子蚀刻 (DRIE) 的.
- 使用原子力显微镜 (AFM) 和扫描电子显微镜 (SEM) 描述了制造结构.
主要成果:
- 成功地制造出多孔拓图形,面积比高达50个.
- 精确控制孔隙和地形的发展.
- 评估了光吸收和热管理的制造特征的性能.
结论:
- 结合的区块-共聚合物掩盖和DRIE技术是有效的创建高面积比率的多孔.
- 制造的多孔结构显示出光学和热工程应用的前景.
- 这种方法为高级表面功能化提供了一条可靠的路线.
