在SiC中植入的,和银三重离子的影响
G Ntshobeni1, Z A Y Abdalla1, T F Mokgadi1
1Physics Department, University of Pretoria, Pretoria, South Africa.
Heliyon
|October 23, 2023
概括
,银和离子在碳化 (SiC) 中的三重植入造成了缺陷和He纳米泡. 化治愈了一些缺陷,气泡促进了银和的迁移和捕获.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 离子植入装置 离子植入装置
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 多晶碳化 (SiC) 是各种高温应用中的关键材料.
- 了解多离子植入的影响对于定制SiC特性至关重要.
- 之前的研究已经探索了SiC的单离子和双离子植入,但三重植入效应,特别是,仍然不太了解.
研究的目的:
- 研究三重离子植入 (,银,) 对多晶SiC的影响.
- 分析缺陷形成,迁移和捕获机制.
- 评估化对植入的SiC结构的影响.
主要方法:
- 多晶SiC样品经过了银 (Ag) 离子, (Sr) 离子和 (He) 离子的连续植入.
- 植入参数包括离子能量,流动和温度.
- 植入后的回火是在1000°C下进行的,持续了5小时.
主要成果:
- 双重和三重植入导致缺陷积累而没有SiC无形化.
- 三重植入导致He纳米泡,空洞,表面水泡和石坑.
- 化部分治愈了结构缺陷,用He气泡促进了Ag和Sr的迁移,并在腔内被困.
结论:
- 气泡起到促进植入银和迁移的作用.
- 诱导的空洞有效地捕捉了植入物种,影响了它们的分布和行为.
- 该研究提供了关于SiC中缺陷工程和离子相互作用的见解,用于先进的材料应用.


