皮层厚度与在非侵入性脑刺激后的工作记忆性能有关

科学领域:

• 神经科学是一个神经科学.
• 认知科学 认知科学
• 神经成像是一种神经成像.

背景情况:

• 针对背侧前额皮层 (DLPFC) 的非侵入性脑刺激 (NIBS) 对工作记忆有不同的影响.
• 个体间的解剖学变异性是影响这些不一致的反应的潜在因素.

研究的目的:

• 为了研究在NIBS后特定大脑区域的基线皮质厚度和工作记忆性能之间的关联.
• 确定个体大脑解剖学是否解释了NIBS对工作记忆的异质影响.

主要方法:

• 从健康受试者获得的结构性MRI数据的二次分析,这些受试者接受了跨直流刺激 (tDCS),间歇性甲基突破刺激 (iTBS) 和安慰剂.
• 工作记忆任务的表现在NIBS后进行了评估,包括双边DLPFC,中间前额叶皮质和后带带皮质在内的感兴趣区域.

主要成果:

• 与安慰剂相比,对于tDCS和iTBS,双边DLPFC皮质厚度和反应时间之间发现了显著的负相关性.
• 较厚的DLPFC与tDCS和iTBS后更快的反应时间相关.
• 在iTBS,后带皮层厚度和工作记忆性能之间观察到积极的关联;没有发现对准确性的显著关联.

结论:

• 在tDCS和iTBS之后,DLPFC的基线皮质厚度与工作记忆性能有关.
• 个体皮层厚度可能部分解释了NIBS对工作记忆的影响的变化.
• 这些发现突出了神经解剖学在调节NIBS功效以提高认知能力方面的作用.