氧化物薄膜的中红外光学性能与不同的固态度

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 光电学是指光电子产品.
• 薄膜技术 薄膜技术

背景情况:

• 氧化 (SiO_x) 薄膜是各种光学和电子设备中的重要组成部分.
• 精确控制SiO_x固体测量和光学特性对于设备的性能至关重要.
• 中红外 (MIR) 应用需要具有可调节折射率的材料.

研究的目的:

• 为了研究氧气流速对SiO_x薄膜通过磁铁喷射制备的特性的影响.
• 为了确定SiO_x膜在中红外区域的复杂折射率.
• 为了确定喷雾参数,薄膜石化度和光学特征之间的相关性.

主要方法:

• 在基板上制造SiO_x薄膜,使用磁铁喷射与不同氧气 (O₂) 流速的基板.
• 使用福里埃变换红外光谱 (FTIR) 在传输和反射模式 (525μm) 中描述膜的光学特性.
• 使用多层模型和布伦德尔-博曼振荡器模型分析和优化复杂的折射率值.

主要成果:

• O₂流速显著影响得到的SiO_x薄膜的静态度.
• SiO_x膜的复杂折射率在中红外光谱中成功调整.
• 折射率值可以调整为纯 (Si) 和二氧化 (SiO) 之间的折射率值.

结论:

• 使用受控O2流量的磁铁喷射是一种有效的方法来定制SiO薄膜石化学.
• 光学特性,特别是MIR中的复杂折射率,可以通过调整O2流速来精确设计.
• 这项研究为制造定制SiO_x光学涂层提供了一条途径,用于特定的中红外应用.