在YX-LN/SiO2/Si SH-SAW共振器中利用声学分散,用于机电合优化和雷利模式抑制

概括

这项研究优化了YX-LiNbO3/SiO2/Si基板上的剪切-水平 (SH) 表面声波 (SAW) 共振器. 通过解SH和雷利模式,我们实现了增强的机电联接,并抑制了不需要的模式.

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