2H-/1T'-MoTe2,使

Christoph Reuter1, Gernot Ecke2, Steffen Strehle1

  • 1Institute of Micro- and Nanotechnologies, Microsystems Technology Group, Technische Universität Ilmenau, Max-Planck-Ring 12, 98693, Ilmenau, Germany.

概括

这项研究引入了一种新型的不电阻纳米图案技术,用于用扫描探头光刻法对二化 (MoTe2) 进行扫描探头光刻. 该方法通过诱导氧化产生纳米尺度的图案,从而使MoTe2设备的精确结构成为可能.