表面穿孔和并行圆柱体的形态与区块共聚合物/同聚合物混合物与氧气等离子蚀刻的梯级膜共存

Ya-Sen Sun1, Yi-Qing Jian2, Shin-Tung Yang2

  • 1Department of Chemical Engineering, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan.

概括

氧等离子蚀刻通过选择性去除组件,在聚合物混合膜中创建纳米结构. 这一过程产生了多样化的表面形态,包括六角阵列和复杂的图案,对纳米技术应用有用.