表面穿孔和并行圆柱体的形态与区块共聚合物/同聚合物混合物与氧气等离子蚀刻的梯级膜共存
Ya-Sen Sun1, Yi-Qing Jian2, Shin-Tung Yang2
1Department of Chemical Engineering, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|November 7, 2023
概括
氧等离子蚀刻通过选择性去除组件,在聚合物混合膜中创建纳米结构. 这一过程产生了多样化的表面形态,包括六角阵列和复杂的图案,对纳米技术应用有用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 聚合物科学 聚合物科学
背景情况:
- 在纳米技术中使用聚烯-块-聚 ((甲基甲酸) /同聚烯混合物的薄膜.
- 控制纳米结构的形成对于先进的材料特性至关重要.
研究的目的:
- 用氧等离子蚀刻研究聚合物混合膜的表面结构.
- 探索不同的混合成分如何影响纳米结构形态.
主要方法:
- 氧气等离子蚀刻被应用于聚烯-块-聚 ((甲基甲酸) /同聚烯混合物的薄膜.
- 在蚀刻后分析了表面和破裂膜形态.
主要成果:
- 对重量分数比率的调整导致SiO2/Si基板上的穿孔和圆柱体.
- 短时间的等离子体暴露在自由表面上产生了扭曲的六边形的纳米点阵列.
- 破碎的表面呈现出五种不同的形态,包括齐克扎克和交织的阵列.
结论:
- 氧气等离子蚀刻有效地在聚合物混合膜中雕刻表面结构.
- 形态学受到包括谷物方向,应力和蚀刻动力学在内的因素组合的影响.
- 该研究展示了一种用于潜在应用的复杂纳米结构创建的方法.


