概括
这项研究介绍了一种超紧波导交叉,用于双极化. 新型设计显著减少了设备尺寸,同时保持了低插入损失和交叉对集成光子应用的交叉对讲.
科学领域:
- 光子学和光学工程的工程.
- 集成光学 集成光学 集成光学
- 纳米光子学 纳米光子学
背景情况:
- 波导交叉是光子集成电路中必不可少的组件.
- 现有的设计往往面临大小和性能限制,用于双极化应用.
- 微型化对于增加光子集成电路的密度和功能至关重要.
研究的目的:
- 提出并实验证明一种基于的超紧波导交叉.
- 为了在最小化足迹范围内实现高效的双极化操作.
- 通过设备小型化,实现光子学中的高级功能.
主要方法:
- 使用低波长孔辅助多模式干扰 (MMI) 合器.
- 采用分散工程来灵活控制节拍长度.
- 参数优化以实现TE和TM偏振的相同节拍长度.
主要成果:
- 证明了一个超紧的波导交叉,其尺寸为13.6 × 13.6 μm2.
- 在1550nm时实现了低插入损失 (1.03dB TE,0.76dB TM)
- 获得了低交叉声 (TE为-32.5dB,TM为-37.8dB),运行带宽为80nm.
结论:
- 拟议的低波长孔辅助MMI合器可以显著减少波导交叉的设备尺寸.
- 展示的设备为TE和TM两种极化提供了出色的性能指标.
- 这项技术为更紧,更复杂的光子集成电路铺平了道路.
