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Jiyao Wang1, Hai Chen1, Yiyuan Ling1

  • 1Division of Advanced Manufacturing, Tsinghua Shenzhen International Graduate School, Shenzhen, 518055, China.

Talanta
|November 18, 2023
PubMed
概括

一种新的切割阶段方法通过提高离子门性能来增强漂移管离子移动性谱学 (IMS). 这种技术可以提高电源和信号强度的分辨率,同时减少歧视效应,以提高IMS系统的性能.