基于双层金属网的高度透明的Ka-/W频段电磁屏蔽膜
Sung-Il Chung1, Tae-Weon Kang2, Pan Kyeom Kim1
1Nano Hybrid Technology Research Center, Korea Electrotechnology Research Institute, Changwon 51543, Republic of Korea.
ACS applied materials & interfaces
|November 21, 2023
概括
使用金属网的新型双层屏蔽膜在高频频段提供了出色的电磁波屏蔽. 这种创新的材料实现了超过50dB的屏蔽效率,具有90%的光学传输率和高灵活性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 电磁学 电磁学 电磁学 电磁学
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 高频电磁波对屏蔽材料构成挑战.
- 现有的屏蔽膜往往会损害光学透明度或灵活性.
研究的目的:
- 为高频带开发一种高性能电磁波屏蔽膜.
- 为了研究双层金属网状结构的有效性.
主要方法:
- 使用金属微网状电极 (MMEs) 和纳米网状电极 (NMEs) 在聚乙烯四甲 (PET) 薄膜上制造双层屏蔽 (DLS) 薄膜.
- 优化MME的厚度大于线宽的屏蔽和透射率.
- 整合了缩小光圈大小的NME,以保持在更高频率的性能.
- 使用高频优化屏蔽测量系统,光学传导率和灵活性测试进行评估.
主要成果:
- 在90%的光学传输率下,DLS膜实现了超过50dB的屏蔽效率.
- 在6毫米的曲率半径下,证明了高达5000个周期的稳定曲阻力.
- 由于纳米网电极,保持了高频性能.
结论:
- 开发的双层金属网膜在高频频段提供了卓越的电磁波屏蔽.
- 片表现出极好的光学透明度和机械灵活性.
- 汽车,医疗和军事行业的潜在应用非常重要.
