TiN

Fangyu Guo1,2, Bo Chen1,2, Qiyu Zeng1,2

  • 1College of Science, National University of Defense Technology, Changsha, Hunan 410073, People's Republic of China.

PubMed
概括

一个新的深度神经网络 (DNN) 潜力使得化 (TiN) 涂层的精确,大规模的原子模拟成为可能. 这揭示了在高温和应力下脆弱的断裂机制,这对于了解切削工具性能至关重要.

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