聚胺薄膜作为核轨道探测器的应用 (1):对轨道记录灵敏性的系统研究
Tamon Kusumoto1, Yutaka Mori2, Satoshi Kodaira1
1National Institutes for Quantum Science and Technology (QST), 4-9-1 Anagawa, Inage-ku, 263-8555 Chiba, Japan.
概括
这项研究揭示了重离子阻断功率如何影响UPILEX-S®聚胺 (PI) 薄膜中的轨道记录灵敏度. 较重的离子显示较低的辐射化学产量,由于明显的辐射剂量分布.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 核物理 核物理 核物理
- 聚合物科学 聚合物科学
背景情况:
- 聚胺 (PI) 薄膜对于辐射检测应用至关重要.
- UPILEX-S®被公认为是一种高度耐辐射的聚胺.
- 了解辐射对PI的影响对于在恶劣环境中进行材料选择至关重要.
研究的目的:
- 为了确定UPILEX-S®薄膜的轨道记录灵敏度,作为重离子停止功率的函数.
- 用FT-IR光谱学研究不同聚胺薄膜中的潜轨结构.
- 分析离子速度,辐射剂量分布和辐射化学产量之间的关系.
主要方法:
- 使用重离子 (Ar,Kr,Xe,U) 的实验,具有不同的停止力.
- 蚀刻坑形成分析以确定检测值.
- 福利埃变换红外 (FT-IR) 光谱学用于研究隐性轨迹结构.
- 测量不同离子和PI类型的辐射化学产量 (G值).
主要成果:
- 在UPILEX-S®中为Ar,Kr,Xe和U离子建立了蚀刻坑形成的检测值.
- 在UPILEX-S®和卡普顿的潜轨结构通过FT-IR光谱分析.
- 较重的离子在相似的停止力下观察到较低的辐射化学产量.
- 低速和高速离子之间的辐射剂量分布的差异被确定为原因.
结论:
- 根据重离子停止功率,UPILEX-S®表现出不同的轨道登记灵敏度.
- FT-IR光谱学提供了关于聚胺中潜伏轨道结构修改的见解.
- 该研究阐明了离子速度和辐射剂量对聚胺薄膜辐射化学的影响.
- 这些发现有助于在高能物理和太空探索中选择和应用耐辐射聚胺.
