高比例结构的暗场成像 - 一个简单的模型模型
Optics express
|November 29, 2023
概括
一个用于暗场光学成像的简化模型加快了微型和纳米结构的模拟. 这种方法有效地模拟了高比例特征的散射,以改善光学检查.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 计算机建模 计算建模
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 模拟复杂的微型和纳米结构的光学成像是计算密集的.
- 现有的模型在高比例几何体中与平面内散射作斗争.
研究的目的:
- 为暗场光学成像模拟开发一种简化,更快的模型.
- 准确模拟三维微型和纳米结构中的散射效应.
主要方法:
- 使用增量衍射理论来建模来自边缘波的初级散射.
- 通过从附近的特征重新散射来进行二次散射.
- 简化了衍射系数,并将照明光束限制在那些进入目标镜头的光束上.
主要成果:
- 简化模型减少了对象字段的模拟时间.
- 横向电 (TE) 和横向磁 (TM) 极化图像的比较.
- 与矢量有限元模型对比结果的基准测试证实了准确性.
结论:
- 拟议的模型为模拟暗场光学成像提供了一种有效的方法.
- 适用于对具有垂直特征的微电子机械系统 (MEMS) 和纳米电子机械系统 (NEMS) 的光学检查.
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