氧化薄膜的特性,由四化和臭氧的原子层沉积而成

Kristjan Kalam1, Peeter Ritslaid1, Tanel Käämbre1

  • 1Institute of Physics, University of Tartu, W. Ostwaldi 1, 50411 Tartu, Estonia.

PubMed
概括

原子层沉积 (ALD) 成功地使用SnI4和O3.3产生了二氧化 (SnO2) 薄膜. 培养在300°C以上的膜显示单相氧化物形成,杂质最小.