高通量研究超网状Ge-Sb-Te薄膜的无形稳定性和光学性能
Jian Hui1, Qingyun Hu1, Hongjian Yuan1
1School of Materials Science and Engineering, Zhangjiang Institute for Advanced Study, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai, 200240, China.
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)
|December 1, 2023
概括
高通量实验合成了Ge-Sb-Te合金库. 形态稳定性和光学特性取决于调制周期和组成,加速新材料的发现.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 薄膜技术 薄膜技术
- 光学材料 光学材料
背景情况:
- Ge-Sb-Te合金对于相变内存和光学存储至关重要.
- 了解它们的结构演变和光学特性是材料设计的关键.
- 组合合成可以快速探索材料属性.
研究的目的:
- 合成和研究Ge-Sb-Te合金的组成梯度超晶格式 (SLL) 薄膜库.
- 阐明影响转移稳定相稳定性和光学性质的关键因素.
- 建立一个数据驱动的方法来加速Ge-Sb-Te材料的开发.
主要方法:
- 使用高通量离子束喷雾系统进行组合式SLL薄膜合成.
- 对回火温度,时间和调制期进行了系统的选.
- 研究合成膜的光学特性和结构演变.
主要成果:
- 确定调制周期和化学成分作为无形稳定性的关键因素.
- 演示了光学常数对调制周期和组成的强烈依赖.
- 建立了结构演变和观察到的光学特性之间的相关性.
结论:
- 调制期和化学成分显著影响Ge-Sb-Te SLL膜的无形稳定性和光学性能.
- 高通量实验加速了先进光学材料的发现和优化.
- 这种数据驱动的方法为控制材料性质的机制提供了新的见解.
更多相关视频
08:38Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films
Published on: August 19, 2016
8.5K
06:57Theoretical Calculation and Experimental Verification for Dislocation Reduction in Germanium Epitaxial Layers with Semicylindrical Voids on Silicon
Published on: July 17, 2020
2.2K
