高透明的导电性Ga-doped ZnO基多层薄膜,嵌入超薄TiN层,沉积在含氧大气中
Optics letters
|December 1, 2023
概括
超薄的化 (TiN) 层为透明导电氧化膜中的金属层提供了一个有希望的替代品. 这项研究证明了氧化/TiN/氧化电极的最佳性能,实现了高导电性和透明度.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 薄膜技术 薄膜技术
- 光电学是指光电子产品.
背景情况:
- 透明导电氧化物 (TCO) 对电子设备至关重要.
- 金属层氧化在TCO/金属/TCO多层沉积中是一个挑战.
- 无透明电极非常受欢迎.
研究的目的:
- 研究化 (TiN) 作为TCO薄膜中金属层的替代品的使用.
- 评估TiN层厚度对氧化 (GZO) /TiN/GZO多层薄膜的性能的影响.
- 开发无透明电极,以提高性能.
主要方法:
- 使用磁铁喷射制造GZO/TiN/GZO多层薄膜的制造.
- TiN层厚度 (<10 nm) 的系统变化.
- 结构性,形态性,电气性和光学性能的表征.
主要成果:
- 通过8nmTiN层实现最佳性能.
- 电阻为4.68 × 10−5 Ω厘米.
- 在可见光谱中,光学传输率超过91%.
- 与传统的金属嵌入膜相比,性能优越.
结论:
- 化是金属层的有效替代品,可以防止TCO薄膜的氧化.
- 具有8纳米TiN层的GZO/TiN/GZO多层结构显示出出色的电气和光学性能.
- 这种方法为开发高性能,无透明电极提供了可行的途径.
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