走向清洁的二维材料和设备:最近转移和清洁方法的进展
Wenlong Dong1,2, Zhaohe Dai3, Luqi Liu1
1CAS Key Laboratory of Nanosystem and Hierarchical Fabrication and CAS Center for Excellence in Nanoscience, National Center for Nanoscience and Technology, Beijing, 100190, China.
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|December 4, 2023
概括
开发清洁的二维 (2D) 材料对于电子和光子学至关重要. 这一观点审查了转移技术,清洁性评估和清洁策略,以克服二维材料设备中的污染挑战.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 表面科学是一门学科.
背景情况:
- 二维 (2D) 材料为电子和光子学提供了革命性的潜力.
- 污染物显著阻碍了设备中的二维材料的性能,阻碍了它们的实际应用.
研究的目的:
- 概述最近在开发清洁二维材料和设备方面的进展.
- 突出在整个制造过程中维护和改善2D材料清洁性的策略.
主要方法:
- 对二维材料的传统和新湿干转移技术的审查.
- 讨论评估二维材料表面和接口清洁性的多尺度方法.
- 介绍被动和主动清洁策略,包括自清洁机制,热和机械处理.
主要成果:
- 评估了各种传输技术在保持材料清洁方面的有效性.
- 评估方法提供了关于表面和接口污染的见解.
- 清洁策略,特别是那些利用自清洁原则和接口湿的清洁策略,显示出有希望.
结论:
- 有效的转移和清洁对于释放2D材料的全部潜力至关重要.
- 了解接口湿是开发创新的清洁和传输方法的关键.
- 进一步的研究可以推动高性能二维基于材料的设备的实际应用.
