Hsien-Chie Cheng1, Wen-You Jhu1,2

  • 1Department of Aerospace and Systems Engineering, Feng Chia University, Taichung 407, Taiwan.

PubMed
概括

本研究提出了一个新的子区域均质化建模框架,以准确预测复杂的层状基板在先进的集成电路 (IC) 包中的热力学行为. 该方法有效地模拟非均的金属痕迹,以改进IC包装设计.

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