Anton Vihervaara1, Timo Hatanpää1, Heta-Elisa Nieminen1

  • 1Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, HelsinkiFI-00014, Finland.

ACS materials Au
|December 13, 2023
PubMed
概括

研究人员开发了一种新的原子层沉积 (ALD) 工艺,用于高纯度黄金薄膜. 这种热还原性ALD方法可以在各种基板上实现低电阻薄膜,最小的杂质.