桌面极端紫外线反射仪用于定量纳米尺度反射仪,散射仪和成像仪
Yuka Esashi1, Nicholas W Jenkins1, Yunzhe Shao1
1Department of Physics, JILA, and STROBE NSF Science and Technology Center, University of Colorado Boulder and NIST, Boulder, Colorado 80309, USA.
The Review of scientific instruments
|December 18, 2023
概括
一种新的极紫外 (EUV) 成像反射仪为纳米结构提供了高精度,非破坏性的计量技术. 这种先进的工具量化测量了几何和组成,这对于半导体和材料科学应用至关重要.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 一致的极紫外线 (EUV) 光使得纳米结构的高分辨率元素特异成像成为可能.
- 先进的计量学对于描述复杂的纳米级材料和设备至关重要.
研究的目的:
- 为高保真纳米结构计量提供多式桌面EUV成像反射仪.
- 为了证明纳米结构几何和组成的定量,非破坏性测量.
主要方法:
- 使用桌面EUV成像反射计,具有三个不同的测量模式:强度反射计,散射计和成像反射计.
- 探测具有高空间分辨率和元素特异性的纳米结构.
主要成果:
- 用次纳米精度对纳米结构几何和组成进行定量和非破坏性测量.
- 确定参数,包括表面/线边的粗度,密度,线宽,形状和深度分辨组合.
- 在几十平方微米的视野中表现出能力.
结论:
- 开发的EUV反射仪为先进的纳米结构表征提供了强大的工具.
- 该系统的多模式方法解决了半导体和材料科学中的各种计量学挑战.
- EUV计量学非常适用于广泛的科学和工业挑战.


