Zheao Huang1, Jakob Rath1, Qiancheng Zhou2

  • 1Institute of Material Chemistry, Vienna University of Technology, Vienna, 1060, Austria.

概括

一种新的选择性连接体去除 (SeLiRe) 方法工程师层次上有孔隙的热利性伊米达酸框架 (ZIFs). 这种技术产生了双微/半孔ZIF,显著增强了用于净化和催化应用的染料吸附.