高效的设计:基于光子学的垂直积累调节器
Zhipeng Zhou1,2, Zean Li1,2, Cheng Qiu1,3
1State Key Laboratory of Luminescence and Applications, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China.
Nanomaterials (Basel, Switzerland)
|December 22, 2023
概括
本研究介绍了一种使用ZrO2介电层的新光子学调制器. 新设计提高了调制效率,同时最大限度地减少了用于先进光学计算和成像应用的信号损失.
科学领域:
- 光子学和光电子学和光电子学.
- 材料科学是一种材料科学.
背景情况:
- 在芯片上的光学调制器对于将电信号转换为光学信号在光子设备中至关重要.
- 高调制效率和低插入损失对于光学相位转向,连贯成像和光学计算等应用至关重要.
研究的目的:
- 在光子平台上引入一种新的积累型垂直调制器结构.
- 为了提高调制效率并最大限度地减少插入损失,使用高K介电层.
主要方法:
- 设计和模拟一种新型积累式垂直调制器.
- 加入一个高K的二氧化 (ZrO2) 介电层.
- 优化设备结构以提高性能.
主要成果:
- 新型调制器结构显示了0.16V·cm的调制效率.
- 效率损失产值被优化为8.24dB·V的低值.
- 使用ZrO2显著提高了低损耗的调制效率.
结论:
- 开发的带有ZrO2层的光子调制器提供了卓越的性能.
- 该设备适用于要求高效和低损耗光学调制的苛刻应用.
- 进一步的研究可以探索高级功能和可扩展性.


