根据提升帽子方法对帽子抛光修改的偏移轨迹的研究
Shujing Sha1,2, Shaohang Ma1, Shanqiang Han1
1School of Mechatronic Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China.
Micromachines
|December 23, 2023
概括
一种新的偏移轨迹方法显著改善了工件边缘抛光,通过减少边缘崩从98.67μm降至1.30μm. 这种方法保持了边缘形态,并增强了边缘效应的融合,以获得更好的表面质量.
科学领域:
- 制造业 工程 制造工程
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面计量学 表面计量学
背景情况:
- 边缘形状的精度和表面质量在工件抛光中至关重要.
- 无法在工件边缘汇合导致缺陷.
- 现有的抛光轨迹往往无法保持边缘的完整性.
研究的目的:
- 提出一种新的偏差轨迹生成方法,以保持抛光边缘形态.
- 在抛光过程中提高边缘配置精度和表面质量.
- 为了解决传统抛光轨迹在工件边缘的局限性.
主要方法:
- 开发了一种基于升降帽子原理的偏差轨迹生成方法.
- 已确定的抛光参数和与升降盖子方法一致的下降规则.
- 利用立方贝塞尔曲线来适应边缘轨迹,并获得修改的偏差轨迹校正系数.
主要成果:
- 修改的偏移轨迹将边缘崩降低到1.30微米.
- 传统的网格轨迹导致了98.67微米的边缘崩.
- 与传统方法相比,修改后的方法显示,与传统方法相比,边缘倒塌率降低了75.9倍.
结论:
- 修改偏差轨迹方法有效地保持了工件边缘形态.
- 这种方法促进了边缘效应的融合,提高了整体表面质量.
- 开发的方法比边缘加工的传统抛光技术有了显著的改进.
