二级校准高分辨率连续源石墨炉分子吸收光谱学基础上的和的测定
Amauri P A Rosa1, Larissa Oliveira Onça2, Adriano A Gomes2
1Universidade Federal de Santa Catarina, Departamento de Química Analítica, Campus Trindade, 88040-900, Florianópolis, Santa Catarina, Brazil.
这项研究引入了一种使用先进光谱学同时测量和的新方法. 展开和N-way部分最小平方与残余双线化 (U-和N-PLS/RBL) 方法显示高精度的同时和的确定.
科学领域:
- 分析化学 分析化学
- 频谱学是一种光谱学.
- 化学测量 化学测量 化学测量
背景情况:
- 准确的同时确定和是具有挑战性的,因为不同的灵敏度.
- 现有的方法可能缺乏复杂样本矩阵所需的精度.
研究的目的:
- 开发和验证和的同时测定方法.
- 评估第二级校准方法的性能,特别是PARAFAC和PLS/RBL,用于此应用.
主要方法:
- 使用了高分辨率连续源石墨炉分子吸收光谱 (HR-CS GF MAS).
- 数据分析使用并行因子分析 (PARAFAC) 和展开/N-way部分最小平方与剩余双线化 (U-/N-PLS/RBL).
主要成果:
- 在合成和真实样本中,U-/N-PLS/RBL方法实现了低的 (13.1-19.2%) 和 (3.2-3.5%) 的相对预测误差 (REP).
- 在合成混合物中,PARAFAC的准确性较低,尤其是,在合成混合物中,REP值高达29.8%,无法准确预测未知的样品.
结论:
- 二级校准方法,特别是U-/N-PLS/RBL,对于使用HR-CS GF MAS.同时确定和是有效的.
- 这些化学测量方法为分析具有显著灵敏度差异的分析物提供了强大的解决方案.
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