在阿尔茨海默氏症和前性痴呆症中,-内皮层路径的微观结构变化
Giulia Quattrini1,2, Lorenzo Pini3, Ilaria Boscolo Galazzo4
1Laboratory of Alzheimer's Neuroimaging and Epidemiology (LANE) IRCCS Istituto Centro San Giovanni di Dio Fatebenefratelli Brescia Italy.
Alzheimer's & dementia (Amsterdam, Netherlands)
|January 12, 2024
概括
在前性痴呆症比阿尔茨海默氏病更严重的微观结构损伤的位置coeruleus到 transentorhinal皮质通道是更严重的前性痴呆症比阿尔茨海默氏病,与entorhinal皮质缩.
科学领域:
- 神经成像是一种神经成像.
- 神经退行性疾病 神经退行性疾病
- 白色物质 诚信 诚信
背景情况:
- 穿越皮层 (LC-TEC) 路径的微观结构完整性在阿尔茨海默氏症 (AD) 和前性痴呆症 (FTD) 中未得到充分研究.
- 调查LC-TEC通路的完整性可以揭示特定疾病的神经退行性模式.
研究的目的:
- 为了在体内比较AD,行为变异FTD (bvFTD) 和健康对照之间的LC-TEC通路的微结构完整性.
- 在这些条件下,探索LC-TEC微观结构变化和脑内皮层 (EC) 缩之间的关系.
主要方法:
- 从21名AD患者,20名bvFTD患者和20名对照组中获得了扩散权重的MRI扫描.
- 扩散张力成像指标 (FA,MD,AxD,RD) 为LC-TEC通路计算.
- 测量了EC的皮层厚度,并与LC-TEC微观结构参数相关联.
主要成果:
- 与对照组相比,AD患者的辐射扩散率 (RD) 在AD患者中升高.
- 行为变异FTD患者的平均扩散度 (MD),RD和轴向扩散度 (AxD) 高于对照组和AD患者,分数异性质 (FA) 低于对照组和AD患者.
- 在bvFTD中,增加的LC-TECMD,RD和AxD与EC皮层厚度有负相关性.
结论:
- 在LC-TEC通路中的微观结构变化在bvFTD中比在AD中更明显.
- 这些发现表明,bvFTD中的LC-TEC微结构变化可能是脑内皮层神经退行的次要原因.
关键词:
阿尔茨海默氏症的疾病是阿尔茨海默氏症.行为变体前性痴呆症 时间前性痴呆症扩散张力成像 扩散张力成像内皮层 (entorhinal cortex) 是一个内侧的皮层.这里是locus coeruleus的地方.更多相关视频
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