电极位置对围膜耳植入物中行为和电生理学测量的影响
Aaron Collins1, Søren Foghsgaard2, Edgar Druce1
1Department of Otolaryngology, The University of Melbourne, Melbourne, Australia.
概括
耳植入物电极位置,特别是靠近模块的基底接触,会影响语音感知. 电气唤起的复合作用电位 (ECAP) 值可以帮助优化手术期间的这一关键定位.
科学领域:
- 耳鼻喉科 耳鼻喉科 耳鼻喉科
- 神经外科 神经外科
- 生物医学工程 生物医学工程
背景情况:
- 耳植入物电极的设计和放置对于语音感知至关重要.
- 现有的研究缺乏关于电极接近耳壁或插入深度的一致发现.
- 本研究使用特定的预曲电极研究了这些关系.
研究的目的:
- 探索耳植入物电极位置与语音感知之间的关联.
- 为了确定电极与模块或中间耳壁的距离是否会影响结果.
- 为了研究电极位置,电气唤起的复合作用电位 (ECAP) 值和阻抗之间的关系.
主要方法:
- 使用Slim Perimodiolar电极对52名成年耳植入器接受者的回顾性分析.
- 术后圆束计算断层扫描 (CBCT) 用于多平面重建和电极位置分析.
- 电极位置,语音感知 (CVC语音),ECAP值和阻抗之间的相关性分析.
主要成果:
- 没有发现总体电极接近修饰体/介质壁或顶端插入深度和语音感知之间的相关性.
- 观察到语音感知与基底电极接触者的位置之间存在温和的相关性;距离基底电极接触的距离较大与感知较差有关.
- ECAP的值显示与距离到骨的距离有反向关系,但与阻抗没有明确的联系.
结论:
- 基底电极与修饰体的距离显著影响了语音感知.
- 优化基底电极放置可能会提高语音感知结果.
- ECAP值可以作为实现最佳电极接近的外科指南.
