混合机制的积极合规智能控制策略,用于帽子抛光
Ze Li1,2, Chi Fai Cheung1, Kin Man Lam2
1State Key Laboratory of Ultra-Precision Machining Technology, Department of Industrial and Systems Engineering, The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong, China.
Sensors (Basel, Switzerland)
|January 23, 2024
概括
这项研究引入了一种新的混合机制和强大的力控制,用于超精密抛光. 新策略通过适应未知的表面来提高表面质量,将平均粗度降低了50%以上.
科学领域:
- 机器人技术 机器人技术 机器人技术
- 制造业 工程 制造工程
- 材料科学 材料科学 材料科学
背景情况:
- 在超精密抛光中,传统的合规性控制在负载能力,准确性和执行器维护方面面临限制.
- 现有的方法通常依赖于机器人平台,对于抛光任务的性能有限.
- 混合机制通过结合串行和并行系统的优势,提供了潜在的优势.
研究的目的:
- 开发和验证用于超精密抛光的高频阻抗强力控制策略.
- 在新型混合机制上实施积极的合规控制.
- 提高在抛光未知的自由形表面时的适应性和表面质量.
主要方法:
- 一种混合串行并行机制被设计用于抛光应用.
- 提出了一种高频阻抗强力控制策略,直接将接触压力与位置调整联系起来.
- 为实时控制和适应,开发了一个带有定制软件的开放架构控制系统.
主要成果:
- 混合机制成功地适应了未知的自由形表面,而不会超射.
- 拟议的控制战略证明了有效的积极合规控制.
- 表面质量得到了显著改善,平均表面粗度从0.057微米下降到0.027微米.
结论:
- 开发的混合机制和强大的力量控制战略有效地解决了传统方法的局限性.
- 该系统可自动适应环境变化,并具有精确的接触压力控制.
- 这种方法为提高超精密抛光表面质量提供了一个有希望的解决方案.
