钻石自磨凝抛光盘的制造和抛光性能
Lanxing Xu1,2, Kaiping Feng1,2, Liang Zhao1,2
1College of Mechanical Engineering, Quzhou University, No. 78, North Jiuhua Road, Quzhou 324000, China.
Micromachines
|January 23, 2024
概括
一个新型的自研钻石凝抛光盘通过加入化 (AlN) 粉末有效防止玻璃化. 这项创新在抛光过程中显著提高了碳化 (SiC) 晶片的表面质量.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面工程是什么?表面工程是什么?
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 凝抛光盘中的玻璃是一个常见的问题,阻碍了效率和表面质量.
- 现有的抛光盘缺乏自我磨能力,导致性能随着时间的推移而降低.
研究的目的:
- 开发一种自研钻石凝抛光盘,以克服玻璃化现象.
- 研究一种新型添加剂对抛光性能和材料完整性的影响.
主要方法:
- 将化 (AlN) 粉末与膜涂层 (A/S粉末) 纳入抛光盘矩阵中.
- 使用特定的溶液在抛光过程中溶解A/S粉末,创建一个孔隙结构以进行自我研磨.
- 分析A/S粉末的溶解特性,并评估其对4H-SiC晶片的摩擦,磨损和抛光性能的影响.
主要成果:
- 最佳的A/S粉末含量为9 wt%,导致稳定的摩擦系数,并防止了玻璃化.
- 在抛光盘上达到2.25nm的表面粗度 (R).
- 粗磨后4H-SiC晶片表面粗度降低38.8%,与没有A/S粉末的磁盘相比.
- 在使用化学机械抛光 (CMP) 精细抛光后,获得了无损的4H-SiC晶片表面,R <0.4 nm.
结论:
- 开发的自研钻石凝抛光盘有效地减轻了玻璃化现象.
- 添加A/S粉末可以提高4H-SiC晶片的抛光性能和表面质量.
- 这种自我研磨技术为先进的半导体晶圆加工提供了有前途的解决方案.
