在纳米抛光过程中通过分子动力学模拟对化变形异质的研究
Bo Zhao1,2, Xifeng Gao1,2, Jiansheng Pan1,2
1Center of Ultra-Precision Optoelectronic Instrumentation Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China.
Micromachines
|January 23, 2024
概括
晶体的方向决定了化纳米研磨中的变形. 分子动力学模拟揭示了不同方向如何影响表面损伤,应力和无形化,澄清了异性质材料的行为.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 计算物理 计算物理
背景情况:
- 晶体异构性导致材料中的各种机械反应.
- 纳米抛光和纳米研磨工艺对于半导体制造至关重要.
- 了解地下损伤对于设备性能至关重要.
研究的目的:
- 为了研究晶体方向在化纳米研磨过程中对变形的影响.
- 分析表面形态,机械反应和无形化.
- 检查残余应力和温度分布.
主要方法:
- 使用了分子动力学 (MD) 模拟.
- 在各种晶体方向上进行了模拟.
- 分析包括表面形态,机械性能,无形化,应力和温度.
主要成果:
- 晶体的方向显著影响了表面生成和地下损伤.
- 观察到异型变形和无形化严重性.
- 其余应力和温度度随着方向而变化.
结论:
- 这项研究阐明了化在纳米研磨过程中的基本变形机制.
- 这些发现增强了对半导体材料中异构性行为的理解.
- 结果为优化对异性质材料的纳米抛光工艺提供了见解.
