软X射线吸收和碎片化的锡-oxo的光电阻

Jarich Haitjema1, Sonia Castellanos1, Olivier Lugier1

  • 1Advanced Research Center for Nanolithography, P.O. Box 93019, 1090 BA Amsterdam, The Netherlands. a.m.brouwer@uva.nl.

概括

这项研究研究了用于极端紫外线 (EUV) 光成像的氧. 了解它们的电子结构揭示了这些有机金属化合物如何对辐射做出反应,这对于开发先进的光电阻非常重要.