结构化照明图解学和在13.5纳米波长的EUV扩散器的波长表征

科学领域:

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背景情况:

• 高性能图形学依赖于结构化照明,在极紫外线 (EUV) 范围内尤其具有挑战性.
• 目前的EUV图形学主要使用仅振幅的面具来进行光束结构.

研究的目的:

• 为了产生一个高度结构化的光束使用相位转移扩散器用于EUV ptychography.
• 使用定制照明提高图形图像重建的质量和分辨率.
• 为了能够对EUV扩散器进行定量相位和振幅测量.

主要方法:

• 设计和优化用于13.5纳米波长的相位转移扩散器.
• 结构光束在EUV图形学实验中的应用.
• 量化分析图解复制的质量和分辨率.

主要成果:

• 通过利用结构化照明的全探测器动态范围,实现了从125nm到34nm的分辨率改进.
• 成功完成了EUV扩散器在13.5nm的定量相位和振幅测量.
• 证明了在波长下评估扩散器缺陷和污染的能力.

结论:

• 定制的结构化照明与相位转移扩散器显著提高了EUV图形摄影的分辨率和质量.
• 采用结构化照明的EUV图形学可实现光学元件的精确计量.
• 这项工作推进了EUV计量学,对未来的纳米刻板技术发展至关重要.