概括
优化基于AlGaN的深紫外线 (DUV) 微环LED涉及调整表尺寸和p-GaN去除区域. 较小的 mesa 尺寸可以提高电流密度和光输出,但蚀刻损坏可以降低性能.
科学领域:
- 光电学是指光电子产品.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 半导体设备 半导体设备
背景情况:
- 深紫外 (DUV) 发光二极管 (LED) 在各种应用中至关重要,包括杀菌和传感.
- 微环LED结构为增强光线提取和性能提供了潜力.
- 基于AlGaN的材料是 DUV 排放的主要半导体系统.
研究的目的:
- 为了研究结构参数对平行翻转芯片基于AlGaN的DUV微环LED性能的影响.
- 为了优化面板尺寸,p-GaN删除区域宽度和内部直径,以提高光输出功率密度 (LOPD) 和外部量子效率 (EQE).
- 了解蚀刻损伤与设备性能之间的关系.
主要方法:
- 基于AlGaN的DUV微环LED的制造和表征,具有不同的环尺寸和p-GaN移除区域宽度.
- 对表层大小和p-GaN去除对电流密度和LOPD的影响进行分析.
- 使用二维 (2D) 有限差异时间域 (FDTD) 方法进行光学性能评估,以研究光提取效率 (LEE).
- 微环结构的内部和外部直径的优化.
主要成果:
- 尺寸较小的LED芯片具有更高的电流密度容忍度和LOPD在尺寸限制内.
- 蚀刻损伤与环形表层尺寸的减少相关,导致LOPD的下降.
- PRM-23 LED (外径90 μm,内径22 μm,宽度减少8 μm p-GaN) 在650 A/cm2时实现了53.36 W/cm2的LOPD,在5 A/cm2时达到6.17%的EQE.
- 删除p-GaN区域的宽度通过影响有效光辐射区域来影响LOPD.
结论:
- 结构优化,特别是面板尺寸和p-GaN去除,对于最大限度地提高基于AlGaN的DUV微环LED的性能至关重要.
- 了解蚀刻效应对于减轻性能退化至关重要.
- 该研究为设计用于先进应用的高性能DUV微LED提供了宝贵的见解.
更多相关视频
10:41Enhanced Electron Injection and Exciton Confinement for Pure Blue Quantum-Dot Light-Emitting Diodes by Introducing Partially Oxidized Aluminum Cathode
Published on: May 31, 2018
8.8K
10:31Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy of N-polar InAlN-barrier High-electron-mobility Transistors
Published on: November 24, 2016
8.6K
