概括
研究人员开发了一种新的电光隔离器,使用薄膜酸. 对于光学系统而言,该设备实现了高隔离率 (39.50dB) 和低插入损失 (2.6dB).
科学领域:
- 光子学和光学工程的工程.
- 材料科学 材料科学 材料科学
背景情况:
- 光学隔离器是光子系统的关键组件,防止反射,可以破坏激光源的稳定性.
- 传统的光学隔离器通常依赖于磁光学效应,这种效应可能是重的,温度敏感的.
- 薄膜酸 (TFLN) 由于其电光特性,为集成光子设备提供了一个有前途的平台.
研究的目的:
- 在薄膜尼酸盐平台上制造和描述一种新的电光隔离器.
- 用电光学方法证明高隔离度和低插入损耗.
- 探索用于TFLN设备制造的光刻光学辅助化学机械蚀刻的潜力.
主要方法:
- 电光隔离器的制造使用光刻法辅助的化学机械蚀刻在薄膜酸上.
- 描述设备的光学性能,包括隔离和光纤对光纤的损失.
- 利用电光效应进行光学隔离.
主要成果:
- 实现了39.50dB的高隔离.
- 显示总体纤维对纤维损失低,为2.6dB.
- 在TFLN上使用指定的蚀刻技术成功制造设备.
结论:
- 在TFLN上开发的电光隔离器为光学隔离提供了高性能,紧的解决方案.
- 以光刻光学辅助的化学机械蚀刻是制造复杂的TFLN光子设备的有效方法.
- 这项工作为具有出色性能特性的集成芯片内光学隔离器铺平了道路.
