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Updated: Jul 4, 2025

Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators
Published on: July 2, 2012
S Perkowitz1, D G Seiler1, W M Duncan2
1National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD 20899-0001.
光学表征技术对于半导体制造至关重要,为材料性能和设备性能提供非破坏性分析. 这些方法为开发先进的半导体材料和设备提供了至关重要的详细见解.
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主要成果:
结论: