热点图案的光学近距离校正与DMD无面罩投影光刻画中的亚波长大小

科学领域:

• 石版画是一种刻画.
• 纳米技术 纳米技术
• 机器学习 机器学习

背景情况:

• 光学近距离效应 (OPE) 在数字微镜设备无面膜投影光刻 (DMD-MPL) 中会导致显著的图案扭曲,因为关键尺寸接近分辨率限制.
• 扭曲包括断点,线末缩放和角圆,降低整体石版质量和图案忠实度.

研究的目的:

• 提出和评估基于像素的光学近距离校正 (PB-OPC) 方法,专门用于DMD-MPL中的热点模式.
• 为了提高通过DMD-MPL生成的抵抗模式的分辨率和真实性.

主要方法:

• 开发基于像素的光学近距离校正 (PB-OPC) 算法,利用端到端学习的神经网络.
• 实施U-net框架,以有效地从未优化到优化的面具进行映射.
• 通过对晶片的暴露试验进行实验验证.

主要成果:

• 在PB-OPC方法有效地纠正光学近距离效应在一般和热点模式.
• 在设计布局中,显示出大约30%的模式错误 (PE) 减少.
• 实验结果证实了该方法能够纠正亚波长模式的扭曲.

结论:

• 拟议的PB-OPC方法提供了一个简单而有效的解决方案,用于改善DMD-MPL中的石版质量.
• 这种方法显示了提高分辨率和模式忠实性的巨大潜力,特别是对于具有挑战性的亚波长特征.
• 这项研究验证了基于神经网络的OPC在高级光刻应用中的有效性.