耳植入后的迁移和其他电极并发症

科学领域:

• 耳鼻喉科 耳鼻喉科 耳鼻喉科
• 神经外科 神经外科
• 生物医学工程 生物医学工程

背景情况:

• 耳植入是严重到严重的听力损失的重要治疗方法.
• 与电极相关的并发症,如迁移,可能会影响设备的有效性.
• 精确评估电极位置对于成功的结果至关重要.

研究的目的:

• 研究耳植入器手术中电极迁移和其他并发症的发生率和特征.
• 为了确定与非最佳电极放置相关的因素.
• 评估电极类型和固定技术对迁移速率的影响.

主要方法:

• 在2019年4月至2021年12月期间进行的耳植入手术的回顾性审查.
• 包括来自第三级推中心的成人和儿科患者.
• 排除没有术后成像和分裂阵列的患者.

主要成果:

• 在299个植入物中,9%显示出低于最佳的电极位置,迁移是重新植入的常见原因.
• 真正的迁移仅在直线电极阵列中观察到.
• 大多数位置不理想的患者的内耳解剖结构正常.

结论:

• 电极迁移可能比以前认为的更为普遍,特别是在直线阵列中.
• 当前的固定技术可能无法完全防止迁移.
• 预先曲的电极和标准化的固定方法可能会降低迁移速率.