,

Berke Erbas1, Ana Conde-Rubio1,2, Xia Liu1,3

  • 1Microsystems Laboratory, École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Lausanne, 1015 Switzerland.

PubMed
概括

这项研究引入了一种新的方法来放大二氧化 (SiO2) 中的纳米模式,使用耐热纳米写和等离子蚀刻. 这种技术使先进的光学和电子设备的高比例,光滑的灰度纳米结构成为可能.