数字反向图案解决方案用于制造基于空间光调制器 (SLM) 的投影光刻法中的高保真度微观结构

科学领域:

• 微纳米设备制造业的制造业
• 先进的 lithography 技术可以使用.
• 光学工程的光学工程.

背景情况:

• 数字面具投影光刻法 (DMPL) 提供无面具,灵活和低成本的图案设计.
• 传统的DMPL由于设计数字面罩调制系数的挑战,与子波长特征大小作斗争.
• 空间光调制器 (SLM) 是DMPL的关键组件,但它们对子波长模式的精确控制仍然很困难.

研究的目的:

• 引入数字反转版画技术 (DILT) 作为设计数字面罩调制系数的新方法.
• 为了解决传统DMPL在低波长特征的高保真模式传输方面的局限性.
• 为了提高DMPL的准确性和可靠性,用于先进的微纳米设备制造.

主要方法:

• 开发了一种数字倒置方法,用于逆向工程师对数字面具的调制系数.
• 应用DILT对二进制振幅调制场景进行数字面罩设计.
• 将DILT应用于用于数字面罩设计的灰色振幅调制场景.

主要成果:

• 在二进制振幅调制中,DILT显著降低了模式误差 (PE),达到原始误差的0.26倍.
• 在灰色振幅调制中,DILT 实现了 PE 的显著降低,达到原始误差的 0.05 倍.
• 结果表明,目标布局的高保真传输得到了显著改善.

结论:

• DILT为在DMPL中设计数字面具提供了一种新且有效的解决方案.
• 该技术显著提高了图案传输的准确性,特别是在子波长特征.
• 在DMPL中,DILT可以实现更高的精度和可靠性,从而提升了微纳米设备制造能力.