在空气中氧化WS2单晶的S-空隙度的作用

Fabio Bussolotti1, Hiroyo Kawai2, Thathsara D Maddumapatabandi1

  • 1Institute of Materials Research and Engineering (IMRE), Agency for Science, Technology and Research (A*STAR), 2 Fusionopolis Way, #08-03 Innovis, Singapore 138634, Republic of Singapore.

ACS nano
|March 11, 2024
PubMed
概括

半导体过渡金属二化物 (TMD) 的缺陷,如WS2驱动氧化,特别是在高度 (≥10%),形成WO3. 了解这种缺陷驱动的氧化是稳定的二维材料设备制造和性能的关键.