Metal-Semiconductor Junctions
Fermi Level Dynamics
MOS Capacitor
Electrostatic Boundary Conditions in Dielectrics
Biasing of Metal-Semiconductor Junctions
Schottky Barrier Diode
您也可能阅读
通过共同作者、期刊和引用图与本文相关的文章。
Ruifeng Dong1,2, Zhengzhou Wang1, Hui Bai1
1State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China.
研究人员在铜化物 (Cu2Se) 中探索域壁,用于memristor应用. 他们发现,在相位转换期间控制电压会产生不同的域壁,其中一种类型在电刺激下可逆移动,这对于设备设计至关重要.
科学领域:
背景情况:
研究的目的:
主要方法:
主要成果:
结论: