lithography.

Optics letters
|March 15, 2024
PubMed
概括

这项研究引入了一种新的卷积回归过器,用于精确的二维 (2D) 失调测量. 新方法在3毫米范围内达到0.82纳米的精度,克服了传统圆形格子的局限性.

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