Lingling Guan1, Chun Cao2,3, Xi Liu1

  • 1Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, 311121, Hangzhou, China.

Nature communications
|March 17, 2024
PubMed
概括

无面具的多光子光刻现在提供了更高的精度. 一种新的光与物质共封闭技术克服了分辨率限制,实现了先进纳米结构制造的30nm临界尺寸.