通过制造后调整几何分散来定制宽带Kerr Soliton微
Gregory Moille1,2, Daron Westly2, Ndubuisi George Orji2
1Joint Quantum Institute, NIST/University of Maryland, College Park, MD 20742, USA.
概括
控制的干蚀刻精确地调整了微复苏器中的化厚度. 这种微调可以精确控制先进的非线性光学和微组合生成的几何分散.
科学领域:
- 综合光子学 综合光子学
- 非线性光学是一种非线性光学.
- 材料科学 是一种材料科学.
背景情况:
- 微振解器中的几何分散对于非线性光学至关重要,特别是用于在短波长中补偿材料分散.
- 通过量身定制几何限制来实现的异常分散是消散式克尔单体 (DKS) 模式中形成微的关键.
- 宽带DKS子对更高阶分散敏感,这取决于纳米级环尺寸.
研究的目的:
- 为了证明微波振器中微调化厚度的受控干蚀.
- 为了使微的分散和光谱特征能够在制造后进行调整.
- 为了促进多个项目晶圆制造,用于各种波长频段应用.
主要方法:
- 使用受控的干蚀刻来调整化薄膜的厚度.
- 制造具有矩形横截面的微环共振器.
- 描述蚀刻对表面粗度和光学质量的影响.
主要成果:
- 干蚀使得化薄膜的晶圆厚度可以精确地调整.
- 空气覆盖环装置的制造后修剪是可行的.
- 干蚀过程不会显著降低化表面粗度或光学质量.
结论:
- 控制式干蚀提供了一种可行的方法,用于集成微复原器中精确的分散工程.
- 这种技术提高了微和DKS状态的可调性和应用范围.
- 该过程支持对各种波长频段的设备的高效制造以及制造后优化.


